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带进样三靶磁控溅射系统

公告-招标公告

广东 -广州

发布时间： 2026年07月09日

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磁控溅射

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申购单主题：	带进样三靶磁控溅射系统	申购单位：	****学院	报价类型：	国内含税价
使用币种：	人民币	公示时间：	2026-07-08 21:13:15	申购备注：

商品名称品牌厂商型号数量售后服务

带进样三靶磁控溅射系统

奇汇

QHV-C106B

规格

极限真空: 优于4×10-5Pa（新设备）漏率: 6.7×10-8Pa﹒L/S 工作真空: 5×10-4Pa，从大气到工作真空时间小于40分钟（新设备冷态下）系统保压: 系统抽到极限后，停泵关机12小时后，系统真空度保持状态≤3Pa。样品尺寸: 100×100mm 样品托尺寸: 126×126mm。（出厂带二套）靶到基片的可调间距: 50～150mm 样品架转速: 0-30转/分可调。加热600℃，控温精度±1℃（MO片加热，无匀热板）磁控靶: 3套,3inch 76.2mm,强磁靶样品台升降距离: 两级升降，整体升降±20mm 流量计: Ar:100sccm一只，O2: 20sccm一只真空室开腔形式: 手动前大开门结构控制方式: 功率控制. 膜厚及均一性: ≤±3%，9个测试点位于10×10 cm2的小于0.5cm****中心点位置，以3×3矩阵方式分布溅射方式: 顺序溅射。