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带进样三靶磁控溅射系统采购结果公告
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***********公司企业信息
| 申购单主题： | 带进样三靶磁控溅射系统 | ||||||
| 申购备注： | |||||||
| 设备名称 | 品牌 | 型号 | 数量 | 报价类型 | 售后服务 | ||
| 带进样三靶磁控溅射系统 | 奇汇 | QHV-C106B | 1 | 国内含税价/人民币 | 无 | ||
| 规格 | 极限真空: 优于4×10-5Pa（新设备） 漏 率: 6.7×10-8Pa﹒L/S 工作真空: 5×10-4Pa，从大气到工作真空时间小于40分钟（新设备冷态下） 系统保压: 系统抽到极限后，停泵关机12小时后，系统真空度保持状态≤3Pa。 样品尺寸: 100×100mm 样品托尺寸: 126×126mm。（出厂带二套） 靶到基片的可调间距: 50～150mm 样品架转速: 0-30转/分可调。加热600℃，控温精度±1℃（MO片加热，无匀热板） 磁控靶: 3套,3inch 76.2mm,强磁靶 样品台升降距离: 两级升降，整体升降±20mm 流量计: Ar:100sccm一只，O2: 20sccm一只 真空室开腔形式: 手动前大开门 结构控制方式: 功率控制. 膜厚及均一性: ≤±3%，9个测试点位于10×10 cm2的小于0.5cm****中心点位置，以3×3矩阵方式分布 溅射方式: 顺序溅射。 | ||||||
| 中标供应商 | 单价 | 初选理由 | |||||
| **** | 386000 | 最低价原则 | |||||
招标进度跟踪
2026-07-18
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当前信息
2026-07-09
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