磁控溅射共有2条相关信息
...1采购意向公开如下:序号采购项目名称采购品目采购需求概况预算金额(万元)预计采购时间备注1磁控溅射镀膜设备A02052401真空获得设备一、用于含锂离子化合物薄膜材料的制备合成,比如钴酸锂、锂磷氧氮、锂镧锆氧等。需求功能包括:多靶材共溅射(要求能够实现两到三个靶材的共溅射工艺,且靶材之间无污染),样品台加热功能(要求样品台可以实现在氧气条件下至少800°C的...( 磁控溅射 在正文中 )
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