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| 来源: | 发布日期:2025-01-14 |
项目名称:介质层化学机械研磨(CMP)设备(重新招标)
招标项目编号:****
项目所属地区:**
招标范围: 介质层化学机械研磨(CMP)设备1台
招标机构:****
招标人:****
开标时间:2024-12-30 14:00
公示开始时间:2025-1-8 12:00
评标公示截止时间:2025-1-13 17:00
中标结果公告时间:2025-1-14
中标人:****